“十二五”规模上千亿元& Z6 E# a% v1 ?: D3 O
在“十二五”期间，随着我国经济的高速发展和战略性新兴产业的兴起，为集成电路产业加快发展提供了更加广阔的市场和创新空间，衍生出多层次的集成电路市场需求，国内IC设计业应抓住新兴产业发展的机遇，实现更大的作为。2 J% b7 ?, V0 O; T7 L- w
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在提及中国集成电路设计业“十二五”发展目标时，魏少军说，从产业规模来看，未来我国集成电路设计企业规模将有望比2010年再翻一番，达到1000亿元左右，这需要保持每年15%的增长率。我国将有1～2家设计企业销售收入超过10亿美元，有 20家设计企业销售收入超过3亿美元，有30～50家设计企业销售收入超过1亿美元。从技术水平来看，目前我们已经有8%～10%的产品进入65纳米工艺节点，到2015年，高端的产品将进入32纳米工艺节点，重大==项目需求的高端产品将实现自主供应。
达到上千亿元并不是一蹴而就的事，需要政策的扶持和产业界的“共同作战”。魏少军提到，一是需要“4号文件”尽快落实到位，细则上要进一步完善。二是国家应加大对工程类人才的培养。三是企业要不断增强自身“内功”。四是国家应营造创新的文化和环境，让企业成为“创新”的先锋。
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魏少军还提到，从2009年至2010年中国IC业遇到的本土代工能力不足的问题已得到缓解，这毕竟是在国际金融危机背景下出现的，并且产能紧张只集中在满足需要的某些工艺上。IC设计企业要加大设计与工艺的结合力度，积极主动地帮助代工厂开发工艺、完善工艺，集成电路代工厂也应加快完善IP核及设计开发环境。紧密捆绑的设计和工艺才是我们的核心竞争力所在。' v' \/ X- s( m2 N+ E
此外，未来半导体业仍将沿着摩尔定律前行，但产品形态一定会发生变化，平台化产品会越来越多，高性能、低成本、可配置是未来产品的发展方向。“移动互联网产业是最值得关注的应用，未来其发展还将呈现全新的业态，而它需要极低功耗、高性能以及灵活的硬件平台，设计企业需要在这方面多下工夫。”魏少军表示。
在制造工艺上，国内工艺水平与国外的差距将会进一步缩小。魏少军指出，国内在 65nm工艺上已成熟，40nm工艺也已开发出来，2015年国内将提升至32nm水平，国外企业则会集中在22nm工艺层次，与之相比我们大约相差一代。当然，问题是我们的企业是否都需要那么高的工艺?我们更应看重的是企业自身芯片设计能力的提升，这样才可以保证企业的可持续发展。同时，在设计工具的短板上，我们虽然存在很大差距，但在特定领域的特定应用方面，我们会开发出特色产品，它毕竟是设计方法的积累。 |
